- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
Détention brevets de la classe G03F 7/039
Brevets de cette classe: 4114
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 27102 |
1001 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
475 |
| JSR Corporation | 2476 |
446 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
420 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8808 |
187 |
| Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
121 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
117 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3188 |
98 |
| LG Chem, Ltd. | 17205 |
54 |
| Merck Patent GmbH | 5909 |
53 |
| Zeon Corporation | 3854 |
52 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
50 |
| International Business Machines Corporation | 60644 |
44 |
| Central Glass Company, Limited | 1244 |
43 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
27 |
| Toray Industries, Inc. | 6652 |
25 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 3995 |
24 |
| Tokyo Electron Limited | 11599 |
23 |
| Toyo Gosei Co., Ltd. | 111 |
22 |
| Kuraray Co., Ltd. | 3392 |
21 |
| Autres propriétaires | 811 |